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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 光刻胶研发过程问题求助
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恶哑哑

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻胶研发过程问题求助

i ca光刻胶，膜厚5um，开2um的线条。显影完毕后，过曝的情况下在cd sem视野中线条内部出现白色斑点，有无大佬有类似的经验或者有解决的思路。目前我自己尝试更换前烘曝光peb等工艺条件均无改善，实在是黔驴技穷

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1楼 2025-02-28 13:43:36
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恶哑哑

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by Andre_W at 2025-03-01 20:57:29
上个图片呢

图中是五开二的space，硅片上显示为白色斑点，二氧化硅片上会显示黑色斑块

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3楼2025-03-03 10:34:10
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Andre_W

银虫 (小有名气)
上个图片呢

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爱一个人，攀一座山，追一个梦
2楼2025-03-01 20:57:29
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恶哑哑

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 恶哑哑 at 2025-03-03 10:34:10
图中是五开二的space，硅片上显示为白色斑点，二氧化硅片上会显示黑色斑块
...

链接: https://pan.baidu.com/s/1v6WEkKf4xAK45MkAcuZ5hg?pwd=fj42 提取码: fj42 复制这段内容后打开百度网盘手机App，操作更方便哦
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4楼2025-03-03 10:49:42
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zhaowenhuang

新虫 (小有名气)
图片被删掉了，看不见
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5楼2025-04-09 22:47:51
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