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太阳系系主任
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日本印刷开发出1纳米级半导体用光掩膜
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| 日本印刷开发出了用于形成线宽为1纳米级别的新一代半导体电路的“光掩膜（Photomask）”。近期已开始向半导体制造设备厂商等提供样品。预计1纳米半导体将在2030年以后普及，为提升人工智能（AI）和自动驾驶的性能做出贡献。 |
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