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电解质HOMOLUMO和电化学窗口的关系和本质原理？只看到diss关系不大的文献
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纯计算小白，需要计算佐证一下，看了很多文献，基本没有看到有人说电解质的homolumo和电化学稳定性（电化学窗口）的具体内部本质的，主要就是看到好几篇文献diss能带和电化学窗口的关联性并不高，diss计算能带并不能代表电化学窗口然后提出更准确的方法去计算窗口。。。但是他们在计算的时候都有考虑具体的反应路径的，但我现在算的是mof不知道反应产物，而且算出来的最高占据态在切割后的端基上感觉这样的homo能级也用不了 现在就是想知道两点，一是为什么能带和电化学窗口有关联，HOMO能级越高的是否氧化稳定性越好？什么情况下关联度高或者不高？内部机理是什么？；二是是否有相关计算周期性晶体的homo能级方面的资料，让homo算的更准确点，不要跑到切割后出现的基团上 受苦于此很久了，问问大家有没有什么资料或者文献有提到啊，谢谢大家，祝大家科研顺利！身体健康！ |
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