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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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YUNXIANG0628

金虫 (小有名气)

[交流] 【求助】高扫速条件下为什么循环伏安会逐渐变为梭形!

小弟是做电容器材料的,在这里有个问题请教大家,在我们平时测试循环伏安的时候,电极材料在高扫速下,他的CV形状会逐渐转变为梭形,我想问问他的具体原因,如果能有相关文献指导更好了!

[ Last edited by YUNXIANG0628 on 2009-10-27 at 22:20 ]
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YUNXIANG0628

金虫 (小有名气)

引用回帖:
Originally posted by xmuxiaoyu at 2009-10-28 16:42:
在没有电化学反应的电位区间,可以说基本是矩形,如果电容随电位变化不大的话(电容是电位的函数),在有电化学反应的区间,电流是两者的和,所以电流有随电位增加,因为iR降大,所以峰电位会有很大的偏移,在慢扫 ...

还有个问题想请教您下,您说的是针对赝电容的,如果是双电层电容,那么他在高扫速下图形的变化是否应该归因于电解质离子在其内部的扩散呢?还有,您有联系方式么,呵呵,感觉受益匪浅,所以想跟您多多探讨下!
4楼2009-10-28 18:07:32
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xmuxiaoyu

金虫 (著名写手)


★ ★ ★ ★ ★
YUNXIANG0628(金币+5,VIP+0):非常感谢!但是如您所说,那图形应该转简称为一个矩形,梭形是否还与其ESR有关呢? 10-28 10:42
因为电容的充电电流与扫速成正比,峰电流与扫速的二分之一次方成正比,所以扫速快了,电容的充电电流远大于峰电流,在总电流中占主导,就会变成了梭形。
2楼2009-10-28 05:03:32
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xmuxiaoyu

金虫 (著名写手)


★ ★ ★ ★ ★
YUNXIANG0628(金币+5,VIP+0):非常感谢! 10-28 18:03
在没有电化学反应的电位区间,可以说基本是矩形,如果电容随电位变化不大的话(电容是电位的函数),在有电化学反应的区间,电流是两者的和,所以电流有随电位增加,因为iR降大,所以峰电位会有很大的偏移,在慢扫描时出现峰的电位,在快扫描的情况下可能还在塔菲尔区域,所以就成曲线增加,看起来就像梭形。
3楼2009-10-28 16:42:54
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xmuxiaoyu

金虫 (著名写手)


双电层里的离子扩散?充电电流的大小是正比于离子在界面的积累速度,也可以说是离子扩散速度。因为有多少电子在电极表面就有相同电量的离子。如果你要讨论扫速对C(E)影响的话,我就不太清楚了,在我的知识范围,我只知道C取决于E和电量Q, 当然溶剂也有很大的影响,不清楚扫速对电容大小有没有影响。个人觉得没什么影响。你可以看下在双电层的电位区域电流是不是与扫速成正比,如果基本是,那么就说扫速不会影响双电层电容。
当然,如果扫速真的很快很快,对于稀溶液,电荷来不及积累,双电层也有可能没有被充满,也就是说没有达到预定的那个电位。举个例,如果你的扫描速度是1000V/s, 那么电位变化1V要1ms, 假设双电层电容是10微法拉, 溶液电阻是100欧姆,那么双电层的充电常数是1ms,就是说实际上你的电极电位变化其实是0.66V, 这个原因也有可能是IV曲线变化的原因,至于那个是真正原因,那就要根据实际实验具体分析,不过一般认为我前面说过的是主要的原因
5楼2009-10-29 06:34:28
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