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【请教】如何清洗Si基片 已有1人参与
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| 各位前辈，我想用Si基片镀膜，不知如何清洗Si基片才能保证Si基片的活性，更容易镀膜那？ |
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 一品堂 - 静电纺丝 | 基片处理 |
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effort6282
至尊木虫 (正式写手)
柳下惠
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- 性别: GG
- 专业: 半导体晶体与薄膜材料
7楼2009-11-25 08:20:53
2楼2009-10-27 13:17:12
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小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
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①用1号清洗液（浓H2SO4:H2O2=3:1,体积比），加热15分钟；超声清洗5分钟； ②用2号清洗液（氢氟酸：去离子水=1：10，体积比），清洗15分钟左右，超声清洗5分钟； ③用去离子水超声清洗10分钟； ④用3号清洗液（氨水：双氧水：去离子水=1：2：5，体积比）加热70-80℃清洗15分钟左右，待冷却至室温后超声清洗5分钟； ⑤用去离子水超声清洗10分钟； ⑥用4号液（HCl:H2O2:去离子水=1：2：8，体积比），加热15分钟，超声清洗5分钟； ⑦用去离子水超声清洗10分钟； ⑧最后用丙酮超声清洗10分钟。 1，2，4号清洗液为酸性液体，利用氢氟酸，浓硫酸溶解二氧化硅薄膜，并使包含在薄膜内的微粒污垢从硅片表面脱落，得到纯净表面。 3号清洗液又称为碱性过氧化氢清洗液，它的去污作用是在碱性条件下对表面污垢进行氧化处理去除有机污垢，同时对金属杂质起氧化-络合作用，使多种金属离子形成稳定的可溶性络合，达到去除金属离子污染的目的。其中要注意煮沸时间不能太长，避免因双氧水消耗而剩下氨水腐蚀硅片。 |
3楼2009-10-27 15:32:24
4楼2009-11-15 13:42:57
