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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 前沿热点 » 【请教】如何清洗Si基片
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馋嘴maomao

铁虫 (小有名气)

[交流] 【请教】如何清洗Si基片 已有1人参与

各位前辈，我想用Si基片镀膜，不知如何清洗Si基片才能保证Si基片的活性，更容易镀膜那？
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1楼 2009-10-27 11:12:40
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effort6282

至尊木虫 (正式写手)

柳下惠
★
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引用回帖:
Originally posted by 082101402 at 2009-10-27 15:32:
①用1号清洗液（浓H2SO4:H2O2=3:1,体积比），加热15分钟；超声清洗5分钟；
②用2号清洗液（氢氟酸：去离子水=1：10，体积比），清洗15分钟左右，超声清洗5分钟；
③用去离子水超声清洗10分钟；
④用3号清洗液（ ...

真是太丰富了~~~~
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某夏，展获外出访友，途遇大雨，直奔郊外古庙，踏进门槛，见一裸女正在拧衣，展获忙出，立于古槐之下，任暴雨浇注。庙妇发觉，躲于门后，忙着湿衣。此传为佳话.
7楼2009-11-25 08:20:53
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zyl2568

金虫 (小有名气)
★
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你想怎么镀？有很多镀法阿，应该是先用酒精清洗，去离子水超声，就差不多了
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2楼2009-10-27 13:17:12
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082101402

银虫 (小有名气)
★
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①用1号清洗液（浓H2SO4:H2O2=3:1,体积比），加热15分钟；超声清洗5分钟；
②用2号清洗液（氢氟酸：去离子水=1：10，体积比），清洗15分钟左右，超声清洗5分钟；
③用去离子水超声清洗10分钟；
④用3号清洗液（氨水：双氧水：去离子水=1：2：5，体积比）加热70-80℃清洗15分钟左右，待冷却至室温后超声清洗5分钟；
⑤用去离子水超声清洗10分钟；
⑥用4号液（HCl:H2O2:去离子水=1：2：8，体积比），加热15分钟，超声清洗5分钟；
⑦用去离子水超声清洗10分钟；
⑧最后用丙酮超声清洗10分钟。
1，2，4号清洗液为酸性液体，利用氢氟酸，浓硫酸溶解二氧化硅薄膜，并使包含在薄膜内的微粒污垢从硅片表面脱落，得到纯净表面。
3号清洗液又称为碱性过氧化氢清洗液，它的去污作用是在碱性条件下对表面污垢进行氧化处理去除有机污垢，同时对金属杂质起氧化-络合作用，使多种金属离子形成稳定的可溶性络合，达到去除金属离子污染的目的。其中要注意煮沸时间不能太长，避免因双氧水消耗而剩下氨水腐蚀硅片。
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3楼2009-10-27 15:32:24
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馋嘴maomao

铁虫 (小有名气)
谢谢楼上的，似乎很专业，学习了
O(∩_∩)O~
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4楼2009-11-15 13:42:57
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