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有机电催化中测试开路电压的亥姆霍兹层获得的有机吸附效果与实际电催化氧化实验不符
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在有机电催化氧化过程中，通常会测试开路电压并中途加入有机底物以获得电压降低的差值，差值越大表明吸附底物量越多。 我通过单池进行HMF开路电压测试，在100 s后加入HMF，一直测试到1800 s。得到Co(OH)2-NF电压差为0.416 V，而NiSe-NF电压差为0.206 V。那么说明Co(OH)2-NF具有更好吸附HMF的效果。 但是通过LSV以及在1.45 V vs. RHE下电催化测试发现，NiSe-NF具有更高的转化率以及产率。 同样通过VASP计算吸附能，NiSe-NF比Co(OH)2-NF具有更高的HMF吸附能。 请问各位虫友这是为什么？ |
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