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电子束曝光(EBL)工艺代工服务
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电子束光刻(EBL-Raith 150) 技术指标: (1) 载片尺寸:8",6",4",小片 (2) CD:10nm (3) 低电压曝光及成像 应用领域: (1) 光学:光子晶体、光波导、调制器、超表面等; (2) MEMS:纳米结构等 (3) 生物芯片等。 |
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