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[商家供应]
电子束曝光（EBL）工艺代工服务
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代金券0元
限量 x 张
满 x 可使用；有效期 x 天；过期可退
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内容
电子束光刻（EBL-Raith 150）
技术指标：
（1） 载片尺寸：8"，6"，4"，小片
（2） CD：10nm
（3） 低电压曝光及成像
应用领域：
（1） 光学：光子晶体、光波导、调制器、超表面等；
（2） MEMS：纳米结构等
（3） 生物芯片等。 |
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