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电子束曝光（EBL）工艺代工服务
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电子束光刻（EBL-Raith 150） 技术指标： （1） 载片尺寸：8"，6"，4"，小片 （2） CD：10nm （3） 低电压曝光及成像 应用领域： （1） 光学：光子晶体、光波导、调制器、超表面等； （2） MEMS：纳米结构等 （3） 生物芯片等。 |
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新虫 (职业作家)
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