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jj503185037
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电子束曝光（EBL）工艺代工服务
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电子束光刻（EBL-Raith 150） 技术指标： （1） 载片尺寸：8"，6"，4"，小片 （2） CD：10nm （3） 低电压曝光及成像 应用领域： （1） 光学：光子晶体、光波导、调制器、超表面等； （2） MEMS：纳米结构等 （3） 生物芯片等。 |
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5楼2024-04-10 21:09:00
乐逍遥2024
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6楼2024-04-14 07:47:44
7楼2024-07-23 11:37:43
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8楼2024-07-27 13:05:11
9楼2025-09-25 09:38:56
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10楼2025-12-24 17:50:19
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