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[商家供应]
电子束曝光(EBL)工艺代工服务
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限量 x 张
满 x 可使用;有效期 x 天;过期可退
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内容
电子束光刻(EBL-Raith 150)
技术指标:
(1) 载片尺寸:8",6",4",小片
(2) CD:10nm
(3) 低电压曝光及成像
应用领域:
(1) 光学:光子晶体、光波导、调制器、超表面等;
(2) MEMS:纳米结构等
(3) 生物芯片等。 |
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