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jj503185037

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[商家供应] 电子束曝光（EBL）工艺代工服务

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限量 x 张
满 x 可使用；有效期 x 天；过期可退

内容

电子束光刻（EBL-Raith 150）

技术指标：
（1）        载片尺寸：8"，6"，4"，小片
（2）        CD：10nm
（3）        低电压曝光及成像
应用领域：
（1）        光学：光子晶体、光波导、调制器、超表面等；
（2）        MEMS：纳米结构等
（3）        生物芯片等。
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1楼 2024-03-24 13:21:07
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wywe2558

新虫 (知名作家)
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639楼2026-08-17 00:29:53
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