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求助高人XPS数据解答
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以下是我做的关于锆掺扎二氧化硅的材料，并且随着锆的含量逐渐升高，然后浸渍法负载钴制成催化剂 Samples Co2p3/2 Si2p3/2 Zr3d3/5 Concentration(atom％) (eV) (eV) (eV) Si Co Zr 10Co/SBA-15 781.04 102.86 - 33.01 0.75 - 10Co/ZS(1/100)-s 780.72 102.06 182.42 28.05 1.49 0.37 10Co/ZS(1/50)-s 780.58 102.19 182.52 27.31 1.53 0.74 10Co/ZS(1/20)-s 780.44 102.05 182.77 26.99 1.62 1.34 10Co/ZS(1/20)-i 780.41 102.60 182.95 24.99 1.72 1.43 10Co/ZS(1/8)-s 780.38 102.37 182.83 25.63 1.83 6.78 10Co/ZS(1/3)-s 780.34 102.55 182.91 25.21 2.21 13.94 10Co/ZrO2 780.31 - 183.17 - 0.91 34.15 以上数据掺扎锆之后， （1）Si2p3/2 的结合能降低了，能否说明锆降低了钴和硅之间的作用力？ （2）Co2p3/2的结合能降低，Zr3d3/5结合能升高，能否说明 随着高含量的增加，钴和硅之间的作用力增加了？ （3）钴的含量增加能否说明表面钴的密度增加？ 望哪位高人指点小弟感激不尽！ 注：ZS（1/100）是代表Zr/Si的原子比是1/100，s 代表的掺杂引入的锆，i代表锆是浸渍引入锆 [ Last edited by 梦飞827 on 2009-10-20 at 23:22 ] |
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9楼2009-10-22 00:06:02
xiaolong3097
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xyliu2010
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4楼2009-10-21 00:39:54
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