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请教介孔二氧化硅合成 已有1人参与
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各位uu们，以下是我的合成方法：在100mL的三颈烧瓶中加入3.00g CTAB、100?μl三乙醇胺和 60.0mL水。将混合物搅拌至透明,然后转移到60℃的油浴中（采用长度为2.0 cm的聚四氟乙烯转子，搅拌速率设置为150转/分），在溶液上小心加入4.0mL原硅酸四乙酯和16mL环己烷的混合物以形成双相，反应48小时，然后离心，用水和乙醇洗涤。 想问问以下几个问题： 1.CTAB去除：除了高温煅烧和萃取以外还有其它方法吗？用热水和热乙醇洗涤是否可以去除模板呢？有什么简便方法可以确定CTAB去除完全了呢？ 2.一般100——200nm的介孔材料离心时选取多大转速比较合适呢？ 3.按照这个方案，有哪些需要特别注意的细节吗？ 谢谢大家，救救孩子吧 发自小木虫Android客户端 |
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