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【作者(必填)】Chandrasekaran, S；Check, J；Sundararajan, S；Shrotriya, P 【文题(必填)】Surface roughness generated by plasma etching processes of silicon 【期刊名，年份，卷（期），起止页码(必填)】J. Vac. Sci. Technol. B Volume 26, Issue 4, pp. 1281-1288 (July 2008) [ Last edited by 郭立强 on 2009-10-6 at 19:18 ] |
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