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采用孔径为 500nm、孔密度为 3×107 孔/cm2 的轨迹蚀刻聚碳酸酯膜作为起始模板。纳 米多孔膜依次涂覆有双层 ZnO(40nm)和 Al2O3(10nm)。然后通过机械抛光去除顶部 ZnO/Al2O3 层，然后进行反应性 O2 等离子体蚀刻以暴露 ZnO/Al2O3 纳米管结构。纳米管直径为 500nm， 高度为 1μm ，侧壁厚度为 50 nm，密度为 3×107/cm2。 这个工艺有哪个公司能做！真的求求了！孩子要寄了！ @dut_ameng 发自小木虫IOS客户端 |
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201214760216
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