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关于光催化剂合成课题的一点疑惑
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| 有关光催化材料的一点疑问，目前对于光催化材料的合成改性有两种路径，一种是通过掺杂给纯光催化剂添加一个杂质能级，达到缩窄禁带宽度的目的；还有一种是通过两种半导体光催化剂之间形成异质结结构，通过特殊的电子迁移机制减少光生电子空穴对的复合，从而促进光催化效率的提高。这两种方法各自的优越性在哪里，各自的缺陷又在哪里呢？ |
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