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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 单晶硅刻蚀表面粗糙度问题
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Lefadian

新虫 (小有名气)

[交流] 单晶硅刻蚀表面粗糙度问题

在制作微透镜中，使用ICP设备刻蚀单晶硅碰到如下问题
两种不同的单晶硅材料，刻蚀前表面均光滑，使用相同的干法刻蚀设备、相同的刻蚀工艺，一组表面光滑、一组表面粗糙，想咨询下决定刻蚀后Si片粗糙度的因素有哪些？晶向、晶型、电阻率？ 还有哪些？望高人指点~
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1楼 2022-10-10 10:00:55
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tzynew2楼
2022-10-10 10:03   回复  
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xiaoqiuqiu203楼
2022-10-10 10:30   回复  
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XG-WUST4楼
2022-10-11 08:20   回复  
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假大空5楼
2022-10-11 10:51   回复  
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