应《网络安全法》要求，自2017年10月1日起，未进行实名认证将不得使用互联网跟帖服务。为保障您的帐号能够正常使用，请尽快对帐号进行手机号验证，感谢您的理解与支持！

24小时热门版块排行榜    

小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 单晶硅刻蚀表面粗糙度问题
51/1返回列表
查看: 491  |  回复: 4
只看楼主 @他人 存档 新回复提醒 (忽略) 收藏    在APP中查看
【有奖交流】积极回复本帖子，参与交流，就有机会分得作者 Lefadian 的 16 个金币 ，回帖就立即获得 1 个金币，每人有 1 次机会

Lefadian

新虫 (小有名气)

[交流] 单晶硅刻蚀表面粗糙度问题

在制作微透镜中，使用ICP设备刻蚀单晶硅碰到如下问题
两种不同的单晶硅材料，刻蚀前表面均光滑，使用相同的干法刻蚀设备、相同的刻蚀工艺，一组表面光滑、一组表面粗糙，想咨询下决定刻蚀后Si片粗糙度的因素有哪些？晶向、晶型、电阻率？ 还有哪些？望高人指点~
回复此楼

» 猜你喜欢

» 本主题相关商家推荐: (我也要在这里推广)

» 抢金币啦！回帖就可以得到:

查看全部散金贴
1楼 2022-10-10 10:00:55
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
简单回复
tzynew2楼
2022-10-10 10:03   回复  
Lefadian(金币+1): 谢谢参与
o 发自小木虫Android客户端
xiaoqiuqiu203楼
2022-10-10 10:30   回复  
Lefadian(金币+1): 谢谢参与
XG-WUST4楼
2022-10-11 08:20   回复  
Lefadian(金币+1): 谢谢参与
up 发自小木虫IOS客户端
假大空5楼
2022-10-11 10:51   回复  
Lefadian(金币+1): 谢谢参与
顶
相关版块跳转 我要订阅楼主 Lefadian 的主题更新
51/1返回列表
提示: 如果您在30分钟内回复过其他散金贴，则可能无法领取此贴金币
普通表情 龙 兔 虎 猫 高级回复 (可上传附件)
信息提示
关闭
请填处理意见
关闭