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浙江大学集成电路+化学工程交叉培养博士生招生【2023秋季入学】
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围绕集成电路产业发展的迫切需求，针对现有芯片制造所需材料及纳米制造工艺存在的关键问题，开展交叉学科研究。该交叉人才培养计划涉及化学工程与技术、集成电路两个一级学科，导师为吴汉明院士和赵俊杰研究员。现开放申请。 导师介绍： 吴汉明院士，浙江大学微纳电子学院院长，曾任中芯国际集成电路制造有限公司技术研发副总裁。长期工作在我国集成电路芯片产业并做出突出贡献。主持、参加了包括国家重大专项在内的0.13微米至14纳米七代芯片大生产工艺技术研发，攻克了包括刻蚀等一系列关键工艺难点，与世界先进水平差距明显缩小。用理论模型支持我国首台大生产等离子体刻蚀机研发。创建了设计ip核技术公共平台，支持芯片制造产业链协同发展。担任973项目首席科学家负责“量子点存储器和磁存储器技术研发”。发表著作论文116篇。授权发明专利67项。曾获得“十佳全国优秀科技工作者” 和“全国杰出专业技术人才”等荣誉。作为主要成员，三次获国家科技二等奖，多次获省部科技奖。 赵俊杰，浙江大学“百人计划”研究员、博士生导师，化学工程联合国家重点实验室固定成员。入选国家级海外高层次青年人才项目、浙江省杰出青年基金。长期从事薄膜沉积的基础与应用研究，发展了纳米尺度薄膜材料的分子调控及区域选择性沉积技术。主持国家级基础研究项目及企业技术合作开发项目8项。在jacs、angew. chem.、engineering等顶尖期刊发表论文30余篇，获得美国电化学学会年会、欧洲化学气相沉积大会等国际会议特邀报告的邀请。入选美国真空学会薄膜专业委员会委员，担任advances in materials science and engineering客座主编和transactions of tianjin university等学术期刊青年编委。 申请条件： (1）对于科学研究或工程开发有很强的兴趣； (2）所学专业：面向所有工科专业、信息学专业、物理和化学等理科专业优秀本科生和硕士生； (3）【硬性要求】大学英语六级500及以上、或雅思6.0及以上、或托福90及以上，成绩有效期五年。 联系方式： 请发送简历至 jzhao18@hotmail.com |
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