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用丁二酸酐对羟基喜树碱进行修饰后处理问题 已有1人参与
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大哥们救救我吧 我用丁二酸酐对羟基喜树碱上的羟基进行修饰,用吡啶做溶剂,DMAP做催化剂,羟基喜树碱和丁二酸酐的比例为1:4。60摄氏度反应24小时。 反应结束后TLC点板有原料点和我的产物点。过柱分离(洗脱剂为二氯比甲醇10:1),原料点很快就出来了,但是要洗脱很久,而且和我的产物点分不开,我要怎么办啊呜呜呜呜,试了跑大板也是分不开…… 还有什么办法可以把它们分开吗,救救孩子吧 @lifeliuyan 发自小木虫IOS客户端 |
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2楼2022-04-02 21:31:35
jyngxj
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