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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 交流探讨 » 【求助】磁控溅射氟化镁薄膜镀不上去？
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tplee_hb

铜虫 (小有名气)
★
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没有沉积到衬底上（或者沉积的很少）的原因可能有：
1。靶材与衬底距离太近，靶材和衬底的距离对不同设备有不同的范围，与不同功率也有关系。通常衬底只要在起辉后能够浸入辉光内就可以了，距离太近反溅射会很严重，导致沉积速率降低。
2。压强太大，粒子平均自由程变小，等离子体在撞向靶材之前经过多次碰撞，使能量降低溅射效率降低，另外溅射出的氟化镁原子和少量分子在到达衬底之前也会遭到多次反复膨胀，使能量损失严重可能无法到达衬底；
3。气体流量太，为保持溅射室恒压，真空泵会提高工作效率（开打阀门）气体在溅射室流动速度变快，同样会降低平均自由程。但是气体流量过低，又会影响辉光的稳定性。
4。衬底的温度，如果衬底有加热盘，最好加热一定温度，可以提高成核和生长的驱动力
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11楼2009-09-01 10:02:52
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mse507

木虫 (正式写手)
是不是真空度不够啊？
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12楼2009-09-01 10:28:31
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qiqifyc

木虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
10楼说的很好
另外基片的前处理应该也有点影响。
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13楼2009-09-01 11:05:46
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20041696

银虫 (小有名气)
★
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靶材与基底太近很可能不能产生辉光放电，因为电子和其他粒子的碰撞会大大减少！
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14楼2009-09-01 17:02:32
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