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【调剂】北京石油化工学院2024年16个专业接受调剂
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haohaowind

木虫 (小有名气)

[求助] 半导体衬底有一个10um深度和宽度的沟槽,求介质填充推荐已有2人参与

半导体衬底有一个10um深度和宽度的沟槽,不适合用PECVD等方式沉积SiO2等,求助能否通过旋涂等方式填槽(如用光刻胶或者其他材料)?之前试了AZ系列和聚酰亚胺,发现要么过薄,要么胶太黏度太高,没法“流”到槽内。
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kendelinca

铜虫 (小有名气)

2楼2021-12-22 16:47:37
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pieske

新虫 (初入文坛)

一般都是先沉积一层膜,再磨掉上面的部分
3楼2021-12-23 06:54:44
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haohaowind

木虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by pieske at 2021-12-23 06:54:44
一般都是先沉积一层膜,再磨掉上面的部分

主要是磨需要CMP,而且衬底需要是圆形的(不然受力不均匀容易裂片),所以这个方案也挺难实施成功的
4楼2021-12-23 10:01:25
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haohaowind

木虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by kendelinca at 2021-12-22 16:47:37
压干膜

请问有推荐的品牌和型号吗?
5楼2021-12-23 10:12:37
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核潜艇

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

如果用光刻胶,那么可以试试调节粘度、亲和性能,这些参数可以根据要求进行调整。
6楼2022-01-21 23:24:50
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qiyao_2021

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

佛山齐耀公司主要向科研院所、高校、以及科技创新型企业提供半导体行业相关耗材销售。公司目前经营的产品有日本热板、烘箱、涂胶机等桌面型设备。单双抛硅片、光刻胶4620、SU8、6130等,国内外货源充实。有意可致电咨询:0757-63522339,或13336518063。
7楼2022-04-22 17:39:50
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