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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料化学 » 光刻胶，掩模版怎么选择
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【悬赏金币】回答本帖问题，作者罗恩的鸡腿将赠送您 100 个金币

罗恩的鸡腿

新虫 (小有名气)

[求助] 光刻胶，掩模版怎么选择已有4人参与

有没有大佬做过光刻胶，紫外光刻工艺这块的，掩模版怎么定制比较好，选择什么材质的，线宽间距多少比较好，价格一般多少，谢谢各位大佬
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1楼2021-11-25 13:52:18
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lithofab

新虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

UV么，是什么光刻机？
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2楼2021-12-02 08:30:25
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Lancer545

捐助贵宾 (小有名气)
用接触式曝光还是？

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3楼2021-12-02 20:03:38
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MEMS刘

新虫 (小有名气)
专业定制光刻掩膜板，150  175  44236

发自小木虫Android客户端
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4楼2021-12-04 16:40:39
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木书虫

铜虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

线宽和胶的分辨率、曝光机的性能有关，目前Cr镀层的应用较多，国内有专业制作掩膜版的
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5楼2021-12-05 21:11:27
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核潜艇

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

光刻胶，SSBN333@SINA.COM
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6楼2022-01-21 23:33:28
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qiyao_2021

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

佛山齐耀公司主要向科研院所、高校、以及科技创新型企业提供半导体行业相关耗材销售。公司目前经营的产品有日本热板、烘箱、涂胶机等桌面型设备。单双抛硅片、光刻胶4620、SU8、6130等，国内外货源充实。有意可致电咨询：0757-63522339，或13336518063。
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7楼2022-04-22 17:47:50
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