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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 压电铁电材料 » sol-gel制备PZT薄膜，方形基片旋涂前驱不均匀的问题。
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风间新之助

金虫 (小有名气)

[交流] sol-gel制备PZT薄膜，方形基片旋涂前驱不均匀的问题。

请教各位虫友大大，最近在用sol-gel制备PZT薄膜，配置好前驱液后用匀胶机旋涂出来发现方形基片上始终效果不好，边上有一圈（如下图）。我配置的前驱液浓度是0.33mol/L，旋涂参数的低速800r/min,10s，高速3000r/min,30s，加速度5000。
我尝试改变滴胶的量，旋涂速度，时间，加速度均不能前辈，这种出现这种情况可能是什么原因，或者方形基片只能做到这种效果。

sol-gel制备PZT薄膜，方形基片旋涂前驱不均匀的问题。


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一杯清水
1楼 2021-11-16 22:28:55
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nhhaa19
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11楼2021-11-16 22:56:59
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jbm梦逍遥
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2楼2021-11-16 22:31:09
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6号枫木塔
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3楼2021-11-16 22:32:32
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tzynew
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4楼2021-11-16 22:32:39
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