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微流控芯片设计 已有1人参与
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想请教各位大神，如何能用光刻的手段来制备三维的微流控通道（比如制备一个三维的微流圆管） 发自小木虫IOS客户端 |
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石银东
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【答案】应助回帖
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现在电子芯片的加工工艺已经到nm级别了，所以你要光刻出三维的结构，这个其实很简单，采用无掩模直写光刻系统可以实现。当然也有其他的手段，比如采用高精密3D打印工艺也是可以的，但是3D打印的缺陷是非常明显。 在这里和大家普及下3D打印的诸多缺陷：①3D打印的树脂材料本身不适合微流控芯片；②3D打印的尺度基本上要在几十微米以上的；③3D打印的价格其实很贵的，堪比光刻的费用；④3D打印的器件如果作为PDMS浇注模具的话，那么脱模是你无法绕开的问题，而厂家是不会管你的，脱模脱不掉那就只能重新打印，这成本是很高昂的。所以强烈建议大家，做微流控就不要考虑3D打印了，里边的坑太多。 但是，无掩模直刻系统就不一样，这才是微加工应该标配的设备，这类产品在市场上很多，但是在微流控领域比较常用的是由英国剑桥大学卡文迪许实验室主任/英国皇家科学院院士Cowburn教授根据其研究工作的需要而专门设计开发的科研及研发生产用利器Durham台式无掩膜直写光刻系统：3D加工： 256级灰度，可实现Z方向的不同深浅的加工。该设备引入国内约三年时间，目前在国内已经拥有50几个用户，如清华，北大，复旦，上大，南大，中科大，浙大，中科院物理所，技物所各研究所等科研高等学府及科研院所；福州高义光学，上海安翰医疗，北京ISBS科技等企业，并赢得了一致良好的使用口碑。具体可以咨询我哈！ |
3楼2021-09-10 17:34:17
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本帖内容被屏蔽 |
2楼2021-09-10 16:56:38
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