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angiwww铁虫 (初入文坛)
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[求助]
需要选择一种适用于作为牺牲层的高分子材料（方便旋涂，易溶解） 已有1人参与
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最近在尝试使用PVD做纳米薄膜，使用硅片/载玻片作为基底 为了使得纳米薄膜在形成之后方便剥离，需要在PVD之前先在基底上旋涂一层聚合物，然后再PVD过后利用有机溶剂（不能用水或酸）将聚合物溶解 之前尝试使用了光刻胶Su-8，但是光刻胶在加热固化后很难溶解。利用NMP可以使其溶胀并且从基底上脱离，但是溶胀了的光刻胶仍然粘附在产品纳米薄膜上。 查阅了一些资料，PAA似乎是很好的一种牺牲层，但是PAA需要用水来溶解，而我的产品会与水、有机酸发生反应，只能使用其他有机溶剂例如乙醇，丙酮，DMF，DMSO，NMP等。查到有说PMMA和PS的溶解性比较好的，但是不知道多少分子量的比较合适并且方便购买？ 因此在这里求助各位 |
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