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铜表面射频磁控溅射镀铝
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请问高手,我用射频磁控溅射的方法在铜上镀铝,真空度6*10^-4,溅射的压强为1.0pa,溅射的功率100w,靶基距8cm。溅射时间40分钟以上。分别在不同的温度下(50,100,150,200,400,500摄氏度)进行实验,每次都能正常起辉。但是沉积温度在200,400,500摄氏度的时候就是镀不上,当沉积温度是50,100,150摄氏度时就能镀上。请问高手为什么会出现这种情况呢,或者有什么解决办法吗?各位有什么经验传授一下啊!万分感激!
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