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xia_hou

木虫 (正式写手)

[交流] 【求助】XPS电子刻蚀技术在核壳结构材料中应用的相关文献

前一段时间听了一个关于XPS的报告,XPS是作表面分析,用电子枪对样品表面进行刻蚀,然后可以检测到新的表面,也就是说可以作一个径向的元素分析;

我现在做了一个材料,二氧化硅包覆三氧化二铁F2O3 core/SiO2 shell 核壳纳米粒子,二氧化硅层约为20nm,三氧化二铁粒径约为100-150nm。
我看的文献喜欢用HRTEM进行分析,证明包覆成功; 我想XPS的电子刻蚀表面测试技术用来分析过核壳结构材料应该是再好不过了,有没有人见到过这方面的文献,最好与我做材料结构类似的核壳材料方面的文献。
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xia_hou

木虫 (正式写手)

我知道一层层剥离,我先做个表层的XPS,结果应该主要是Si、O的信息
再进行剥离,只要剥离时的厚度可以小于150nm,我就能看得到内层结构的信息,这时候主要是Fe、O。
上次我和做XPS的实验员讨论过这个问题,仪器上配了个初略的电镜,可以观察观察和选取到100nm以上的粒子进行分析。
当然以上只是个人的一点想法,知识有限,没看过这方面的文献,也还没做过该表征,期待高手出现!
3楼2009-08-16 09:38:30
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WQM-小民哥

金虫 (小有名气)

应该是不行的,XPS分析中样品表面的刻蚀是一层一层下去的,尺寸都比你的颗粒大,所以你溅射的过程是很多个颗粒一起被剥层,那样的话既有F2O3又有SiO2 存在,你没办法分析。
2楼2009-08-15 23:57:10
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