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xrq0525

金虫 (正式写手)

[求助] 关于光刻胶选择的问题,请教一下前辈们

准备制作微结构材料,要直接用显影后的光刻胶硅片做阴模,微结构尺寸20微米,高度10微米,间距3微米,是用su-8还是AZ好一些呢?主要是精度要够。

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babyoflion

金虫 (著名写手)

都没问题!AZ陡直度差点!

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2楼2021-07-09 18:32:03
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xrq0525

金虫 (正式写手)

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引用回帖:
2楼: Originally posted by babyoflion at 2021-07-09 18:32:03
都没问题!AZ陡直度差点!

主要是那个间距3微米能比较精确地满足吗,之前某大的加工说az4620在那个厚度分辨率不行

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3楼2021-07-09 19:38:28
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babyoflion

金虫 (著名写手)

我觉得没有问题,深宽比也只有3!您是间距3,又不是留下来3!精准控制就看工艺了

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4楼2021-07-09 19:45:12
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xrq0525

金虫 (正式写手)

送红花一朵
引用回帖:
4楼: Originally posted by babyoflion at 2021-07-09 19:45:12
我觉得没有问题,深宽比也只有3!您是间距3,又不是留下来3!精准控制就看工艺了

就是说如果想把3微米的间隔留下可能做不到是吗?

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5楼2021-07-09 20:04:10
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babyoflion

金虫 (著名写手)

也不说做不到,相对很难!毕竟正胶!我7u直径22u高柱子是做过!但是同比降下来还没试过!

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6楼2021-07-09 22:36:01
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xrq0525

金虫 (正式写手)

送红花一朵
引用回帖:
6楼: Originally posted by babyoflion at 2021-07-09 22:36:01
也不说做不到,相对很难!毕竟正胶!我7u直径22u高柱子是做过!但是同比降下来还没试过!

感谢指点!

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7楼2021-07-10 00:38:38
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