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铜靶材一种优良的溅射材料-长沙鑫康新材料
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   铜溅射靶材是真空镀膜行业的优良溅射材料。溅射靶材是一组特殊的材料，特别适用于薄膜镀膜， 铜溅射靶材是高纯度铜金属经过一系列工艺后的产物。它具有特定的尺寸和形状。由于高纯铜材料具有许多优异的性能，铜靶在电子、通讯、超导、航空航天等前沿领域得到了广泛的应用您是否对铜金属如何成为铜溅射靶感到好奇？您想了解铜溅射镀膜靶材的规格和应用吗？ 铜溅射靶材生产工艺 如何制作铜溅射靶 – 步骤 1 将金属转化为铜溅射靶的第一步是熔炼。铜冶炼的原料是铜矿石，可分为三类。 · 硫化矿：黄铜矿（CuFeS2）、紫铜矿（Cu5FeS4）和黄铜矿（Cu2S）。 · 氧化矿石：铜矿（Cu2O）。孔雀石，[Cu2(OH)2CO3]，金孔雀石 (CuSiO3·2H2O)。 · 天然铜 在不同类型的铜矿石中，含铜量在1%（0.5%～3%）左右的矿石是值得开采的。对于这些矿石，可以通过浮选去除一些脉石等杂质，容易获得铜含量高（8%～35%）的精矿。提取后得到粗铜，通过多次电解和区域熔炼法将铜从99.95%提纯到99.99%、99.999%和99.9999%。 用铜矿石制作铜溅射靶 如何制作铜溅射靶 – 第 2 步 接下来的一系列步骤包括锻造、轧制和热处理原材料中的高纯铜锭。目的是使铜锭中的晶粒更小，密度更高，以满足溅射所需的铜靶要求。 如何制作铜溅射靶——第 3 步 变形处理后，加工出高纯度铜溅射材料，以达到高精度和高表面质量，并适合真空镀膜机的尺寸 铜溅射靶分类 正如我们上面提到的，铜靶通常分为平面铜靶和旋转铜靶。平面靶为片状，有圆形和方形。旋转靶为管状，利用效率高。经过高纯铜挤压、拉伸、矫直、热处理、机加工等多种工艺，最终可得到旋转铜靶产品。 铜溅射靶材应用 铜靶材适用于直流二极溅射、三极溅射、四极溅射、射频（RF）溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可用于镀膜反射膜、导电膜薄膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰薄膜、保护薄膜、集成电路、显示器等。与其他靶材相比，如 钛溅射靶材，铜靶材的价格要低得多。因此，在满足膜层要求的前提下，铜靶是首选的溅射材料。 长沙鑫康新材料是一家是集金属及陶瓷化合物镀膜材料研发、生产、销售于一体的溅射靶材制造商。如果您对靶材有任何疑问，可以进入主页联系楼主，留言也是可以的 |
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