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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 氯气或氯化硼等离子体可以刻蚀氮化硅或氧化硅介质层吗？
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时雨金时

木虫 (正式写手)

[交流] 氯气或氯化硼等离子体可以刻蚀氮化硅或氧化硅介质层吗？

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1楼 2021-03-23 10:43:04
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babyoflion

金虫 (著名写手)
★
时雨金时(金币+1): 谢谢参与
不太巴适吧

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6楼2021-03-23 11:39:57
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MEMSlee

捐助贵宾 (著名写手)
★
时雨金时(金币+1): 谢谢参与
刻蚀硅氧化硅和氮化硅是F基气体

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9楼2021-03-24 19:12:16
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MEMSlee

捐助贵宾 (著名写手)
氯气和三氯化硼是刻蚀金属的

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10楼2021-03-24 19:12:41
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chenhuanlong

禁虫 (文学泰斗)
★
时雨金时(金币+1): 谢谢参与
本帖内容被屏蔽
16楼2022-10-17 11:24:42
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tzynew2楼
2021-03-23 10:44   回复  
时雨金时(金币+1): 谢谢参与
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Angler'3楼
2021-03-23 11:04   回复  
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楠楠玲儿4楼
2021-03-23 11:07   回复  
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云在青天5楼
2021-03-23 11:10   回复  
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xiaoqiuqiu207楼
2021-03-23 11:52   回复  
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taixixiansheng8楼
2021-03-24 14:52   回复  
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miaojiabing11楼
2021-03-29 16:56   回复  
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竹笑风弦12楼
2021-03-29 21:38   回复  
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nono200913楼
2021-12-25 19:14   回复  
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·
雅虎跌14楼
2021-12-26 19:29   回复  
天道$酬勤15楼
2022-10-17 10:44   回复  
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