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【求助】ICP-MS测试中K含量突变如何解决
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在ICP-MS测试过程中发现一个问题，请高人指教。我们主要是用Agilent 7500来测量硅片中金属含量，用HF和H2O2萃取Si晶元表面层元素，进行测量。在使用过程中，会无规律的出现对标样测量建标准曲线时K含量突然变高的情况，但是过一两天又会恢复正常。翻以前的帖子有介绍此种情况是ArH+的干扰。 我的问题是如果确实是ArH+干扰，那么为什么会无规律的出现突增，是什么原因引起的，与标样有没有关系？如果要避免这种情况的发生，应该如何解决？ |
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2楼2009-08-07 14:49:48
baojibt
金虫 (小有名气)
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- 专业: 金属材料的力学行为
3楼2009-08-09 18:37:33
4楼2009-08-14 17:03:30
