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dingdang619

银虫 (小有名气)

[求助] 急求Tauc图求带隙问题

请教各位大神,关于tauc图求禁带宽度不太懂,想请教几个问题:
1.看文献中利用tauc图球半导体禁带宽度有两种做图方式,一种是直接与横坐标的求交点(图b),一种好像是在曲线的拐点处拟合了两条直线求交点(图c)?请问这两种有什么区别?到底哪种是标准的?

2.图a 是我做的光催化剂的tauc图,a和c是两种单独的化合物,a+c是我做的复合材料,可以认为a+c综合了二者的带隙结构吗?a+c的活性要由于单独的a和c,活性和带隙之间的关系应该如何解释呢?
急求Tauc图求带隙问题
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学术谷测试

金虫 (著名写手)


联系我吧。给你讲解一下。你的问题比较多。

发自小木虫Android客户端
2楼2021-03-16 12:53:41
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