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光刻胶,硅片,各种衬底,特殊耗材,委托加工
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研材-jiali

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按类型来分:
1.常用薄胶有S1800系列,HTI 751......不同的型号对应的不同厚度范围和分辨率,厚度从0.5um到5um,分辨率从0.5um到1um。适用于各类接触式光刻机,stepper,稳定性好,广泛应用于半导体制造。

2.常用厚胶如SU-8 2000,3000系列是负性环氧类光刻胶,具有高深宽比,光刻后可达到非常好的陡直度。畅销款正性厚胶SPR220,厚度范围1-30um,分辨率1um,有良好的黏附性,可用作电镀工艺,广泛应用于MEMS和Bump工艺。畅销款负性厚胶HTG910,可用作电镀工艺。

3.Lift off光刻胶常用的是ROL-7133和LOR系列,LOR用于双层胶工艺中的底层胶。

4.还有各种电子束光刻胶,具有极佳的分辨率。HSQ XR-1541-006厚度范围85nm-180nm,分辨率可达6nm。进口、国产PMMA有很多不同的分子量,对应不同分辨率,纵宽比;适用于双层工艺。

5.此外还有彩色光刻胶,光固化胶,干膜等~不同的工艺应用对应不同的型号,欢迎大家前来咨询~我会给各位推荐适合的光刻胶,价格惊喜,品质优良!

苏州研材微纳科技有限公司
Suzhou Research Materials Microtech Co., Ltd
Tel: 0512-68636965
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研材-jiali(金币+1): 谢谢参与
90楼2023-10-22 17:07:35
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