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(11.5-11.6)IWAPS 2020 特邀嘉宾：ARCNL主任Joost Frenken教授
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 第四届国际先进光刻技术研讨会（International Workshop on Advanced Patterning Solutions）将于11月5~6日在四川成都举办，本次会议特别邀请到了荷兰纳米光刻高级研究中心主任Joost Frenken教授做特邀报告。  第四届国际先进光刻技术研讨会由中国集成电路创新联盟与中国光学学会联合主办，由中国科学院微电子研究所、中国科学院光电技术研究所、中科微电子产业技术西南研究院以及四川省经济合作局承办。IWAPS研讨会专注于高端光刻技术，为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。 Joost Frenken教授是荷兰阿姆斯特丹微纳光刻高级研究中心（ARCNL）主任、荷兰皇家科学院(KNAW)成员，并在多个国家和国际委员会任职，曾任荷兰晶体生长协会主席、荷兰真空学会主席。 Frenken于1982年在阿姆斯特丹大学获得物理学硕士学位；1986年在乌得勒支大学获得物理学博士学位。1986年到1988年间，Frenken在德国马普所担任洪堡学者。1988年，在纽约的IBM Thomas J. Watson研究中心短暂工作后，Frenken来到荷兰原子与分子物理研究所（AMOLF）成立了自己的研究小组。1994年，Frenken成为莱顿大学的特聘教授，并于1996年前往莱顿的Kamerlingh Onnes实验室担任实验物理学的全职教授，领导界面物理研究组。2014年，Frenken开始担任ARCNL成立以来的首届主任。2015年以来，Frenken还担任阿姆斯特丹大学和阿姆斯特丹自由大学的实验物理学教授。 详情请关注微信公众号：光刻人的世界  |
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