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金虫 (小有名气)

[交流] 【求助】请教用磁控溅射制备二硫化钼

我准备在材料表面制备一层二硫化钼薄膜，一种方法是直接用磁控溅射制备二硫化钼薄膜，另一种是先溅射一层金属钼然后在渗硫最后得到二硫化钼。请问哪一种方法比较好？化合物的溅射是不是与他们各自的逸出功有关，要是这样的话是不是就不容易形成二硫化钼了？请各位大贤不吝赐教，小弟感激涕零！谢谢！

我信任你，那请你也给我一点尊重

1楼 2009-07-16 22:10:03

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木虫 (正式写手)

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y984224(金币+3):谢谢参与

我不知道哦，但是希望你成功吧

2楼2009-07-17 09:57:51

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铜虫 (正式写手)

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小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流

我觉得直接溅射比较好，这样可以确定能将硫掺入的。你是直接用直流溅射钼靶吗？如果是并且二硫化钼不导电则你会发现把中毒现象即放电电流，沉积速率下降，放电不稳定。并且靶材表面被破坏。最好用中频放电或射频这样就不存在这种问题了。

http://d.namipan.com/d/Ashcroft,%20Neil%20W,%20Mermin,%20David%20N%20-%20Solid%20State%20Physics(T).djvu/f0504e0c934fa43e8b69e21671ca15dab32ef84964 .

3楼2009-07-17 10:15:17

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金虫 (正式写手)

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小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流

我建议你先做你的第一步:先溅射一层金属钼,然后把第二步改为化学表面气相沉积来生成MoS2
当然,放电电流还要具体的做试验而定! 有了结果记得给个好音讯啊,朋友

与天斗其乐无穷;与地斗其乐无穷;与万物同斗其乐无穷...永不言弃Miracle

4楼2010-01-03 17:55:15

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