| 查看: 384 | 回复: 0 | ||
[求助]
NbOx刻蚀前后为什么我拟合的峰位置偏差在1eV左右?
|
|
我做的是NbOx薄膜,刻蚀前拟合出来的NbO和NbO2和Nb2O5的峰位置大概是205和206.6和207.5左右,(我没用C校准,因为现在有的报道不准确,用的是费米能级校准的),刻蚀后只有Nb2O5差不多,其他两个相差1eV,这是什么原因呢?是我操作的问题吗?急求。 发自小木虫IOS客户端 |
» 猜你喜欢
308求调剂
已经有10人回复
285求调剂
已经有3人回复
070300一志愿211,312分求调剂院校
已经有11人回复
考研生物与医药调剂
已经有6人回复
环境工程 085701,267求调剂
已经有13人回复
08开头看过来!!!
已经有5人回复
086000调剂
已经有5人回复
070300化学专业279调剂
已经有7人回复
本2一志愿C9-333分,材料科学与工程,求调剂
已经有8人回复
328求调剂
已经有5人回复














回复此楼