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NbOx刻蚀前后为什么我拟合的峰位置偏差在1eV左右？
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我做的是NbOx薄膜，刻蚀前拟合出来的NbO和NbO2和Nb2O5的峰位置大概是205和206.6和207.5左右，（我没用C校准，因为现在有的报道不准确，用的是费米能级校准的），刻蚀后只有Nb2O5差不多，其他两个相差1eV，这是什么原因呢？是我操作的问题吗？急求。 发自小木虫IOS客户端 |
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