| 查看: 384 | 回复: 0 | ||
[求助]
NbOx刻蚀前后为什么我拟合的峰位置偏差在1eV左右？
|
|
我做的是NbOx薄膜，刻蚀前拟合出来的NbO和NbO2和Nb2O5的峰位置大概是205和206.6和207.5左右，（我没用C校准，因为现在有的报道不准确，用的是费米能级校准的），刻蚀后只有Nb2O5差不多，其他两个相差1eV，这是什么原因呢？是我操作的问题吗？急求。 发自小木虫IOS客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
308求调剂
已经有10人回复
-
285求调剂
已经有3人回复
-
070300一志愿211，312分求调剂院校
已经有11人回复
-
考研生物与医药调剂
已经有6人回复
-
环境工程 085701，267求调剂
已经有13人回复
-
08开头看过来！！！
已经有5人回复
-
086000调剂
已经有5人回复
-
070300化学专业279调剂
已经有7人回复
-
本2一志愿C9-333分，材料科学与工程，求调剂
已经有8人回复
-
328求调剂
已经有5人回复
