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化学镀PdCL2催化过程不成功,求指点已有1人参与
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大家好： 最近开始研究化学镀，没有经验，请有经验的虫友指点，谢谢大家。 我想在TaN衬底上做化学镀Co, 由于需要先要在TaN衬底上做活化，在活化这一步就遇到困惑且止步。我用1.Sncl2,HCL+PdCL2,HCL.2.Pdcl2+HF+HCL方法活化，在光学显微镜下看得到了大量密密麻麻的点，感觉应该不是Pd颗粒，也不知道是哪操作有问题。以下问题不清楚，希望大家指点？ 1.化学镀前的活化过程后是否需要水洗，还是活化后直接放到化学镀溶液里？ 2.活化后的表面怎么证明活化成功，有哪些方法可以确认活化好了？光学显微镜下是否能观察到？ 3.SnCL2敏化后放入PdCL2前是否需要水洗，还是不水洗直接放入？ 4.TaN有好一点的去氧化层的方法吗？我是用稀释的HF泡了10min。 |
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