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化学镀PdCL2催化过程不成功,求指点 已有1人参与
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大家好: 最近开始研究化学镀,没有经验,请有经验的虫友指点,谢谢大家。 我想在TaN衬底上做化学镀Co, 由于需要先要在TaN衬底上做活化,在活化这一步就遇到困惑且止步。我用1.Sncl2,HCL+PdCL2,HCL.2.Pdcl2+HF+HCL方法活化,在光学显微镜下看得到了大量密密麻麻的点,感觉应该不是Pd颗粒,也不知道是哪操作有问题。以下问题不清楚,希望大家指点? 1.化学镀前的活化过程后是否需要水洗,还是活化后直接放到化学镀溶液里? 2.活化后的表面怎么证明活化成功,有哪些方法可以确认活化好了?光学显微镜下是否能观察到? 3.SnCL2敏化后放入PdCL2前是否需要水洗,还是不水洗直接放入? 4.TaN有好一点的去氧化层的方法吗?我是用稀释的HF泡了10min。 |
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