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xinzhi22jiang

金虫 (正式写手)

[交流] 【求助】关于循环伏安问题

请问:为什么在做循环伏安的时候,随着扫速的增加,峰电流会增加呢?并且电容也增加了呢?最好用公式来说明!小弟刚入门,先谢过!
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三思而后行!
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xmuxiaoyu

金虫 (著名写手)


峰电流是和扫速的1/2次方成正比吧
8楼2009-07-12 21:09:15
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xmuxiaoyu

金虫 (著名写手)


★ ★
xinzhi22jiang(金币+2,VIP+0):谢谢您的回答! 7-10 00:37
在循环伏安中,当电化学过程由扩散控制时, 电流密度的大小正比于传质的速度。在循环伏安中的峰电流的位置是传质速度最大的时候。 如果没有搅拌,传质的速度等于扩散速度,也就是电流密度是由浓度梯度决定的,而浓度梯度决定于扩散层的厚度,扩散层的厚度随时间的1/2次方变化,所以在扩散控制的CV中, 峰电流随扫描速度的1/2次方增加。对于双电层的电流密度随扫描速度成线性变换,而比例系数就是电容值。很简单,根据I=Q/t=Cv/t=Cdv/dt,dv/dt就是扫描速度。对于具体的公式当然是自己看书比较好。

[ Last edited by xmuxiaoyu on 2009-7-9 at 21:51 ]
2楼2009-07-09 21:49:50
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kjqiang_1

木虫 (正式写手)

你看一下Bard写的书,上面很清楚。
3楼2009-07-10 09:01:30
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xinzhi22jiang

金虫 (正式写手)

请问在第几章呢?看不懂哦!:(
三思而后行!
4楼2009-07-10 13:19:36
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