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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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hljiang

铁杆木虫 (著名写手)

[交流] 【讨论】关于TPR和TPD

问大家一个初级问题,不好意思我从未做过TPR和TPD,不知道它们分别都是因为什么原因出峰?

TPR看文献知道有两个原因:
1是因为H2有消耗,比方说Au(III)在升温过程中有H2被消耗用来还原,所以出峰;
2是因为催化剂载体分解,也会造成出峰。
不知道还有哪些其他原因?

TPD的出峰原因又是因为什么呢?
TPD的原理是不是在低温下吸附小分子,然后高温下脱附?不懂。。。


希望哪位热心朋友给予指点,多谢!
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岂能尽如人意,但求无愧吾心
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cosmicking

木虫 (正式写手)

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TPR是测催化剂的可被还原能力,如H2-TPR,只要消耗氢,就会有峰出现,不同位置还原峰代表可被还原物种。
3楼2009-07-01 23:03:26
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Rain润

金虫 (正式写手)


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TPR和TPD都是使用TCD检测器,出峰主要因为气路中气体浓度(成分比列)发生改变导致TCD热丝电阻发生变化,惠斯通电桥不平衡,工作站的反映出来的是电信号!!!
2楼2009-07-01 22:28:15
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wangwei8857

木虫 (职业作家)

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TPD TPR也可以用质谱检测的
4楼2009-07-01 23:50:28
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Sasa823

金虫 (小有名气)

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程序升温脱附及程序升温还原 出峰位置可以表示活性位 峰面积表示活性位的数量
5楼2009-07-01 23:56:38
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