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bingyu0729至尊木虫 (职业作家)
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【讨论】Pd催化剂TPR
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| 以氯化钯作为前驱体, 采用浸渍法制备Pd/SiO2, 500摄氏度焙烧的, 在其TPR 图谱中100摄氏度出现一个负峰, 前面的温度区间没有峰出现, 对于此负峰, 文献上解释说是氢化钯的分解产生的原因, 想问一下氢化钯是怎么形成的,催化剂焙烧之后不是以氧化态的形式存在吗? 即使PdO被还原为单质Pd, H2再在上面发生解离吸附, 在这个过程中形成的吗? 我们知道对于钯催化剂存在氢溢流现象.实在是对于氢化钯的形成不解, 提出来共同讨论. |
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渍法制备Pd/SiO2, 经过500摄氏度焙烧后，Pd可能以金属Pd或PdO的形式存在，当然也可能是Pd、PdO混合物。由于PdO的还原温度很低，特别是有金属Pd存在是（Pd的氢溢流作用）。因此当你切换到TPR时，也就是切换到H2-N2（或H2-Ar）混合气时，虽然此时温度很低，但是很有可能是PdO被还原了。下一步就是发生H2在金属Pd上的吸附，然后在100度左右脱附出来，就是你看到的负峰。 如果有条件做低温TPR，可能会观察到PdO的还原过程。 |
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