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xunzhai金虫 (正式写手)
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[交流]
【请教】请教光刻技术问题
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请问大家，目前的光刻技术精度可以达到多少？还有都可以在哪些衬底上进行光刻处理？ [ Last edited by wdwsnnu on 2009-6-22 at 21:33 ] |
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3楼2009-06-22 21:11:23
dgf2008
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2楼2009-06-22 21:10:00
dsc516
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光刻工艺的进展 显微技术人员已经取得了亚波长分辨率的荧光成像，他们是通过将某一光束聚焦在另一光束的晕轮之中，从而淬灭了除了该光亮点的正中心之外的所有的荧光染料的光芒。在 2009 年 5 月 15 日 刊的《科学》杂志中，有 3 项研究（于 4 月 9 日 发表在网络版上）将这种方法改用在光刻工艺上，这是用于 构建 微 芯片上电路图案的一种加工过程。 这种新的方法可以使人们比传统的方法更加容易而且廉价地制备微型电路。 Scott 等人 http://www.sciencemag.org/cgi/content/short/324/5929/913 研发了一种双色照射法。在这种方法中，一个单波长的中央光束会激活聚合引发剂，而周围的一个第二种波长的晕轮形状的光束会将周边区域的聚合过程终止，因而能够使人们在“晕轮”的中心进行精细的图案刻画。 Li 等人 http://www.sciencemag.org/cgi/content/short/324/5929/910 发现，应用一种不同的引发剂分子可以使这两束光共有同样的波长（ 800 纳米），其中淬灭能力相对较弱的那束光的位置比强力引发光束略微滞后。这 2 种技术都能在臻于亚波长的尺度范围中产生三维特征。最后， Andrew 等人 http://www.sciencemag.org/cgi/content/short/324/5929/917 介绍了一种将一薄膜置放在一个将被刻画的光敏模版上的方法。在吸收了某一紫外蚀刻光束的时候，该薄膜中的分子发生异构而成为一个透明层，但是它在后来吸收可见光的时候又返回到原先的不透明状态。对叠加在可见节点上的紫外峰应用某种干涉图纹可将蚀刻局限在这些节点中央的狭窄区域内，从而产生亚波长宽度的线条。在一则附随的 Perspective 中， J. W. Perry http://www.sciencemag.org/cgi/content/short/324/5929/892 重点介绍了这些研究。 |
5楼2009-06-23 08:47:48
