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²£Æ¬µÄ»î»¯¼°¹èÍ黯. ½«¼Ó¹¤³ÉÒ»¶¨³ß´çµÄ²£Æ¬·Ö±ðÓÃÒÒ´¼ºÍˮϴ¾», ´µ¸É, ÖÃÓÚH2O2(30%)ºÍŨH2SO4(98%)µÄ»ìºÏÒº(V(H2O2):V(H2SO4)=7:3)ÖÐ, ÔÚ΢·ÐϼÓÈÈ1 h, È¡³ö, ÓôóÁ¿Ë®³åÏ´¸É¾», ´µ¸É±¸ÓÃ(×¢Òâ: H2O2ºÍH2SO4»ìºÏÈÜÒºÑõ»¯ÐÔ¡¢¸¯Ê´ÐÔ¼«Ç¿, ʹÓÃʱÐèÒªÌØ±ðСÐÄ). A clean glass wafer was treated in a boiling ¡°piranha solution¡± (30% H2O2/98% H2SO4: 3/7, v/v) at 98 ◦C for 1 h (Caution: piranha solution is a very strong oxidant and reacts violently with many organic materials, it must be handledwith extreme care). Then, the wafer was rinsed thoroughly with plenty of water and dried. |

8Â¥2009-06-22 10:07:30
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4Â¥2009-06-20 22:57:40













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