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化工人马一新虫 (正式写手)
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[求助]
磁控溅射沉积无定型Si薄膜充放电测试问题
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各位老师,同学: 学生请教一下Si半电池组装问题以及测试数据问题。样品信息:Cu箔基底(厚度0.03mm)上磁控溅射500nm的无定型Si薄膜,直径20mm,组装半电池,电解液有两种:(1)1mol/l的LiClO4,溶剂EC+DMC体积比1:1;(2)1mol/l的LiPF64,溶剂EC+DMC体积比1:1。参比电极为金属Li片,手套箱内循环,充放电电流密度~10uA/cm,电压截止区间0.1-1.5V。 半电池未充放电时,测试得到开路电压~2.8 V,首先放电至0.1V,过程缓慢,且放电容量仅有~13uAh/cm2-um,和理论容量相差极大。首次充电,电压急剧上升,表明内阻极大,充电容量小,第2次放电容量更小。测量EIS得到阻抗接近2000欧。测量CV时无法观察到明显的氧化还原峰 个人认为容量低的原因:(1)半电池内阻太大;(2)Si薄膜组分有问题。其他原因未知。 请问你们在组装Si薄膜半电池时一般使用的半电池模具,以及电解液,充放电条件是什么。还有测量CV时,除了降低扫描速率出现峰外,还进行过什么改善。谢谢你们的回答,若回答详细我会回馈金币,表示感激。@Gamry-电化学@a88592718@langzhizhou@louderbe |
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