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[商家供应] 飞秒直写光刻系统

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内容

这款飞秒激光直写光刻系统,laser lithography system是专业为微纳结构光蚀刻而设计的激光直写光刻机。飞秒激光直写光刻系统基于多光子聚合技术(multi photon polymerization, mPP),适合市场上的各种光刻胶(photoresists),能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构,是全球领先的激光光刻机.
飞秒激光直写光刻系统

    激光光刻机3D模型制备
    直写光刻机直接激光刻划  
    激光光刻机整套系统到货即可使用
    激光光刻机提供100nm-10um的分辨率
    直写光刻机超小尺寸


更多激光直写光刻机请浏览官网:http://www.felles.cn/guangkeji.html
激光光刻机3D模型的制备
这套三维光刻机由激光微加工系统软件控制,简单的3D模型通过这种软件即可生成,对于比较复杂的3D模型,用户可以通过Autodesk, AutoCAD等软件制作,然后导入到三维光刻机的软件中,这个软件支持.stl, dxf等格式的文件用于3D结构的制造。
激光光刻机激光直接读写
这套激光光刻机由飞秒激光光源,精密的3轴定位台和扫描镜组成。首先,待刻录的图形通过激光光刻机精密的激光聚焦系统直接从CAD设计中导入到光刻胶上。聚合物的双光子或多光子吸收用于形成高质量表面的3D结构。<100nm的尺寸可自形成结构,200nm-10um尺寸的结构可以控制并重复,这套激光蚀刻机提供纳米尺度分辨率和对聚合物的广泛选择,从而可以适合微纳光学,微流体,MEMS,功能表面制作等各种应用.
与CAD设计等同的3D结构形成后,未固化的光刻胶剩余物由有机溶剂洗掉,这样只留下蚀刻的微纳结构呈现在基板上。
激光光刻机后续工序:
在所需的微纳结构形成后,它被浸入到几种不同的溶剂中,以除去蚀刻过程中留下的液态聚合物。激光光刻机全部过程都是自动化的,重要参数可以根据要求而设定:浸入时间,温度等.对于特殊的样品或加工对象,可以使用紫外光或干燥机处理。
飞秒激光直写光刻系统
应用

• Nanophotonic devices (3D photonic crystals)激光光刻机用于纳米光子器件(三维光子晶体)
• Microfluidics 三维光刻机用于微流控芯片
• Microoptics (lenses, structures on an optical fiber tip, etc.)三维光刻机用于微光学(光学端面微结构制作)
• Micromechanics 激光光刻机制作机微机械
• Micro-Opto-Electromechanical Systems (MOEMS) 激光蚀刻机制作微型光机电系统
• Biomedicine 激光光刻机,三维光刻机用于生物医学

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