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The annealed films prepared at the substrate biases higher than -120 V are still characterized by only one reflection from alfa-WCN(100) and not from WC and WN or W2N. [ Last edited by adamssu on 2009-8-5 at 18:30 ] |
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sjli000616
木虫 (正式写手)
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- 金币: 7817.5
- 红花: 1
- 帖子: 544
- 在线: 88.2小时
- 虫号: 115375
- 注册: 2005-11-24
- 性别: GG
- 专业: 核放射化学
2楼2009-06-01 12:47:52
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yurou1218(金币+1,VIP+0):非常感谢交流 6-5 00:06
yurou1218(金币+1,VIP+0):非常感谢交流 6-5 00:06
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The annealed films prepared at the substrate biases higher than -120 V are still characterized by only one reflection from alfa-WCN(100) and not from WC and WN or W2N. 在高压-120 V 的基质偏差条件下制备的退火膜，通过来自alfa-WCN(100) 的一条反射就可以表征，而不能用来自 WC ，WN或W2N的反射表征。 |
3楼2009-06-02 10:52:16
4楼2009-06-02 10:54:29