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求助除去模板的方法的注意事项
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我之前用二氧化硅为模板制备纳米球，用HF为刻蚀剂除去二氧化硅模板。但是照扫描和透射电镜发现，可能是HF的浓度太强了，或者在用KOH造孔时KOH量太多了，对球的结构产生了破坏，使得照出来的很多球结构不完整，有的不成球，有的球被破坏了，有的呈片状。请问大家在用模板法除二氧化硅时HF的用量和浓度及时间如何控制的啊?实验小白，请大家指导和提供宝贵意见，谢谢大家了！ @xiejf @nowitzki_ci @神魔流转 @wulishi8 @dut_ameng 发自小木虫Android客户端 |
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