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马哈烟雨萌萌

木虫 (著名写手)

[求助] 求助除去模板的方法的注意事项

我之前用二氧化硅为模板制备纳米球,用HF为刻蚀剂除去二氧化硅模板。但是照扫描和透射电镜发现,可能是HF的浓度太强了,或者在用KOH造孔时KOH量太多了,对球的结构产生了破坏,使得照出来的很多球结构不完整,有的不成球,有的球被破坏了,有的呈片状。请问大家在用模板法除二氧化硅时HF的用量和浓度及时间如何控制的啊?实验小白,请大家指导和提供宝贵意见,谢谢大家了!

@xiejf @nowitzki_ci @神魔流转 @wulishi8 @dut_ameng 发自小木虫Android客户端
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永不言弃,开心每一天
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苏州铁匠

禁虫 (著名写手)

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2楼2019-07-12 15:17:36
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马哈烟雨萌萌

木虫 (著名写手)

送红花一朵
引用回帖:
2楼: Originally posted by 苏州铁匠 at 2019-07-12 15:17:36
氢氟酸不能太浓,否则表面容易结块,最好再加点盐酸

那你一般用多大浓度的呢?还有这个用量咋控制的啊?谢谢指点

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永不言弃,开心每一天
3楼2019-07-12 16:11:47
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阳仔1314520

新虫 (初入文坛)

4楼2019-07-14 23:17:24
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马哈烟雨萌萌

木虫 (著名写手)

引用回帖:
4楼: Originally posted by 阳仔1314520 at 2019-07-14 23:17:24
百分5%以下试试

好的,谢谢你的建议,我去试试

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永不言弃,开心每一天
5楼2019-07-15 08:37:49
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郑大河师大

新虫 (小有名气)

引用回帖:
5楼: Originally posted by 马哈烟雨萌萌 at 2019-07-15 08:37:49
好的,谢谢你的建议,我去试试
...

你好,请问你现在做出来了吗?我现在也是以二氧化硅为模板合空心材料,但是结构坍塌了,想咨询一下注意事项,感激!
6楼2020-11-03 17:49:35
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