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TPD/R/O的问题
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1. 目前利用TPD获得脱附活化能及指前因子即简单又准确的操作流程及计算依据。 2. H2-TPR和H2-TPD以及TPO和O2-TPD有何不同?测得的结果能够互相说明吗？或者说各自的异同点，得到结果能够说明的相同问题和不同问题。 我说的可能不够清楚，我将我急需知道的问题细化如下： A:假如我有个催化剂是CuO/Al2O3，我取同样量催化剂分别做了H2-TPR和H2-TPD，那么我得到的两个测试曲线会有不同的峰位置和个数以及面积，但通过峰面积应该能够得到分散程度，峰温对应还原性能进而反应活性中心结构，峰个数对应活性中心种类，所以我感觉H2-TPR和H2-TPD我只需要测定一种情况就可以了，是不是这样呢？ B:TPO和O2-TPD是不是只要测定TPO就可以了或者TPD呢 他们存在的根本区别是前者是吸附，后者是测定脱附，但对于同一个催化剂吸附和脱附性能反应催化剂的定性信息应该是相同的，或者说获得的信息量是相符合，没必要即测定吸附有测定脱附了。不知道我这两理解对不对。 此外，一般TPD测定时候，吸附温度设定的比焙烧温度低50到100度，这个有不适用的情况吗？假如样品在1100度焙烧，吸附温度设定在1000或者800度合适吗？假如这个样品含锰元素，对其进行的是O2-TPD研究 [ Last edited by sunnyzlh on 2009-5-25 at 11:48 ] |
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