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猫有个梦想

新虫 (初入文坛)

[求助] 想请问一下MXene.Ti3AlC2怎么刻蚀剥离成超薄的Ti3C2纳米片

想请问一下Ti3AlC2怎么刻蚀剥离成单层的Ti3C2，我用的是北京福斯曼公司的Ti3AlC2，然后用HF酸刻蚀，试了很多条件，刻蚀了很多次，效果都不好，XRD显示104面的峰始终存在，想请问一下有没有什么好的合成方法？

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1楼 2019-05-09 17:03:11
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yuanleishi

金虫 (正式写手)
原材料的XRD图谱发来看看。有的厂家的MAX相原材料粉末杂质很多，刻蚀不了的。
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2楼2019-05-12 08:58:01
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烟逝紫梦

至尊木虫 (职业作家)
如果原料中含有比较多的Si等杂质，就会比较难刻蚀，即使用氢氟酸原液刻蚀。一般情况下，要想获得单层或少层的Ti3C2Tx，会选择温和的刻蚀方法HCl+LiF,很容易就可得到少层或单层MXene，即使原料中含有少量的TiC。
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一个人始终朝着一个方向前进整个世界都会为他让路的。
3楼2019-05-14 13:56:00
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叫它虚空如何

铁虫 (小有名气)
Ym新材料的TAC特别春还容易刻蚀

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4楼2019-06-28 21:37:56
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pixylzy

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 烟逝紫梦 at 2019-05-14 13:56:00
如果原料中含有比较多的Si等杂质，就会比较难刻蚀，即使用氢氟酸原液刻蚀。一般情况下，要想获得单层或少层的Ti3C2Tx，会选择温和的刻蚀方法HCl+LiF,很容易就可得到少层或单层MXene，即使原料中含有少量的TiC。

大佬您好，我想问下如果MILD方法刻蚀出来Ti3C2不能成膜而且产率很低会是原料导致的吗？目前我测MAX材料的XRD发现含有Ti2AlC杂质峰，而且离心出现紫色溶液
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5楼2020-09-27 14:40:46
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