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Xfrag

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[交流] 连续动态再结晶与层错能的关系

请教大家,一般说层错能低的材料在动态再结晶过程中趋于非连续动态再结晶,而层错能高的材料趋于连续动态再结晶,这里面的机理是什么呢?

层错能高易于交滑移,不易产生晶界迁移,但是为什么趋于连续而非不连续动态再结晶的原理还是不太明白。
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dugu_00

铜虫 (正式写手)



Xfrag(金币+1): 谢谢参与
个人认为层错能不是直接影像因素,而是变形结构的非均匀性导致了不均匀形核的再结晶。而大变形量下的非均匀变形组织多为低层错能所导致。

发自小木虫IOS客户端
5楼2019-05-01 21:26:09
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